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華力微電子基于Encounter數(shù)字技術
開發(fā)55納米平臺的參考設計流程

發(fā)布時間:2013-08-15 責任編輯:admin

【導讀】華力微電子基于Cadence Encounter數(shù)字技術,開發(fā)的55納米平臺上實現(xiàn)從RTL到GDSII的完整流程。該流程中所使用的Cadence數(shù)字工具包括:RTL Compiler、Encounter Digital Implementation 系統(tǒng)、Conformal LEC等。
 
Cadence設計系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)與上海華力微電子有限公司,今天共同宣布,華力微電子公司基于Cadence ® Encounter® 數(shù)字技術交付出55納米平臺的參考設計流程。從現(xiàn)在起,華力微電子首次在其已建立的55 納米工藝平臺上實現(xiàn)了從 RTL到GDSII的完整流程,它也是Cadence與上海華力緊密合作的結果。 
 
在該流程中所使用的Cadence數(shù)字工具包括RTL Compiler、Encounter Digital Implementation 系統(tǒng)、Conformal LEC、QRC Extraction、Encounter Timing 系統(tǒng)、Encounter Power 系統(tǒng)和Physical Verification 系統(tǒng)。除了Cadence工具以外,全芯片流程彰顯華力微電子55納米庫、存儲器IP和IO功能特色。
“與Cadence緊密合作,我們可為客戶提供基于Cadence和華力微電子先進技術的完整55納米參考設計流程,”華力微電子副總栽舒奇表示,“我們期待繼續(xù)與Cadence合作為客戶提供高品質硅晶的最快捷徑。”
“華力微電子公司自2010成立以來,有著令人印象非常深刻的成功紀錄,并已成為Cadence 重要合作伙伴,”Cadence公司銷售副總栽劉國軍表示。“我們共同的努力幫助設計人員有效實施和驗證他們設計的同時,又贏得產品投放市場的時間目標。” 
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