- 新晶體管能夠?qū)⑻幚砥鞯墓慕档椭廉?dāng)前處理器產(chǎn)品的10％
- 新晶體管基于的是硅基，使用了一種名為III-V的化合物半導(dǎo)體
- 工作核心電壓將只有當(dāng)前處理器的50％，功耗只有當(dāng)前晶體管的10％
- 處理器
- 顯卡以及其他高集成度設(shè)備
據(jù)報(bào)道， Intel公司新推出一種名為“P-channel”和“N-channel”的晶體管能夠?qū)⑻幚砥鞯墓慕档椭廉?dāng)前處理器產(chǎn)品的10％。Intel公司于日前公布了新材料“P-channel”晶體管的更多細(xì)節(jié)，新晶體管基于的是硅基，使用了一種名為III-V的化合物半導(dǎo)體。大約在一年之前Intel公司就對(duì)外描述過(guò)基于III-V 材料的“P-channel”晶體管，當(dāng)時(shí)同樣基于的是硅基。
根據(jù)Intel公司的介紹當(dāng)同時(shí)使用N-channel 和P-channel 兩種材料之后就可以制造 CMOS電路塊。并且擁有制造未來(lái)處理器產(chǎn)品的潛力。值得一提的就是基于新材料的處理器功耗將非常低，工作核心電壓將只有當(dāng)前處理器的50％，功耗只有當(dāng)前晶體管的10％。
如果這項(xiàng)創(chuàng)新能夠在處理器產(chǎn)品上得到應(yīng)用，那么這將會(huì)為我們帶來(lái)體積更小、功耗更低、性能更加強(qiáng)大的處理器。很顯然的是新材料將來(lái)還可以應(yīng)用在顯卡以及其他高集成度設(shè)備上。
目前，Intel公司正在著力研究新材料的實(shí)用化。
